2023上海國際光刻設備與光掩膜技術展覽會
Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition
基本信息
時間:2023年11月22-24日
地點:上海新國際博覽中心
展會簡介
微電子技術的發展一直是光刻設備和技術變革的動力,21世紀光刻技術將繼續居于諸多技術之首。光刻技術從誕生以來,在半導體加工制造行業中,作為圖形轉移技術而廣為應用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導體加工技術中為關鍵的光刻技術和光刻工藝設備,必將發生顯著的變化。
隨著集成電路產業的發展,芯片的集成度達到了數千乃至數億晶體管,推動芯片封裝技術向更高密度、更高性能發展,在傳統的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的封裝工藝發展需求的情況下,大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為封裝生產線的關鍵設備。“2023上海國際光刻設備與光掩膜技術展覽會”將于11月22-24日在上海新國際博覽中心隆重舉辦,歡迎廣大相關單位參展、參觀!
參展理由
1、品牌吸引力-在同行和客戶間展示形象、提升行業地位、品牌價值度、榮譽度。
2、市場策略-了解市場信息、拓展銷售渠道、獲取市場訂單、維護銷售網絡。
3、建立進口、批發、經銷、團購、零售的銷售渠道。
4、獲取產品的忠實粉絲您的品牌將會被及大眾媒體關注和***宣傳,成為產品中的明星。
觀眾邀請
邀請全國、省、市、各相關科研單位:電子、微電子、光電子、集成電路、半導體、微/納電機系統、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、******、******、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業、大學、研究所、咨詢機構和公共機構的專家代表等人員到會參觀、洽談。
展會亮點
平臺:行業采購交流平臺;
了解:規劃、設計與施工國內外產品新技術及服務;
建立:用戶直達現場,構建新的客戶關系;
結識:上下游產業聯動,精彩論壇、沙龍助推業界專家、同仁及用戶零距離接觸;
推廣:通過主承辦單位
日程安排
報到布展:
2023年11月20-21日
展出時間:
2023年11月22日
2023年11月23日
2023年11月24日
參展范圍
◆曝光光源、光學系統、電系統、機械系統和控制系統等;
◆光刻機、光刻技術、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術、無掩模光刻技術、沉浸式光刻技術、準分子激光光刻技術、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X***光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術、微光刻技術、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統、光刻-掩模無機芯片與加工系統、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設備等;
◆光掩膜、鉻版、干版,凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設備、光掩模測試等;~如果你需要全國各地最新展會參展商名錄,展會會刊,請瀏覽198代收展會資料網【展商名錄會刊下載網址:www.zg198.net】坐在家中也能尋覓好的產品與項目!

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